中国预计在四年内突破光刻机技术
近日,据国芯网报道,在一个最近举行的科技峰会上,黄仁勋对关于中国何时能研发出先进光刻机的问题做出了回应。他预测到2030年,中国将具备生产自己的先进光刻系统的能力。黄仁勋还强调,随着技术的逐步成熟,中国企业将具备强大的大规模生产潜力,国产设备进驻国内晶圆厂只是时间问题。
国内外对中国光刻机进展的关注持续加热,最近也有外方人士对此发表看法。比如,蔡司半导体的负责人Frank Rohmund在回应相关问题时表示,中国要成功研发出自主EUV光刻机可能需要大约15年的时间。相比之下,黄仁勋的预判显得更加乐观,但这两者的意见并不直接可比。尤其需要注意的是,蔡司讨论的是EUV光刻机,而黄仁勋所说的则是更广泛的先进光刻机。虽然EUV被视为先进技术,但DUV同样属于此类,并且即使在2030年后也不会失去其重要性。两者技术的发展将保持独立的生态体系。